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西安镜屏半导体取得人工培育钻石设备气体供气面板专利精准控制钻石生长速度和质量
栏目:公司新闻 发布时间:2026-03-03 06:11:26

  国家知识产权局信息显示,西安镜屏半导体科技有限公司取得一项名为“一种用于人工培育钻石设备的气体供气面板”的专利,授权公告号CN223837642U,申请日期为2025年2月。

  专利摘要显示,本实用新型公开了一种用于人工培育钻石设备的气体供气面板,涉及培育钻石技术领域,包括供气板和供气箱,供气板的一侧壁装设有气体质量流量控制器,供气箱靠近供气板的一端内部开设有初步混合腔,供气箱的中部开设有静PG电子平台态混合腔,静态混合腔的腔体中设置有混合组件,供气箱的尾部开设有加压腔,加压腔的顶部设置有加压组件。本实用新型通过气体质量流量控制器,保障碳源气体和氢气等按照精确的比例和流量供给,从而精准控制钻石的生长速度和质量,通过初步混合腔和静态混合筒,实现碳源气体和载气的充分混合,以提升钻石的生长速度和质量,通过加压腔实现对气体的压力进行调节以满足钻石不同生长周期对气体压力的不同需求。

  天眼查资料显示,西安镜屏半导体科技有限公司,成立于2009年,位于西安市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,西安镜屏半导体科技有限公司参与招投标项目20次,财产线PG电子平台条,此外企业还拥有行政许可15个。

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